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半导体设备膜材半导体制造Nikon NSR-2205i9C 光刻机
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半导体制造Nikon NSR-2205i9C 光刻机

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Nikon NSR-2205i9C
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订货编码:PT200004240015
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产品应用:

用于半导体制造行业

在微芯片及其他设备上生成微小复杂电路图案

采用光刻技术在硅片上精确打印图案

可制造10纳米级晶体管、二极管、电阻、电容等元件

产品特性:

超高速核心处理器,支持每小时450片晶圆产能

内置800+曝光场镜头,实现高级曝光模式

高精度电气与光学元件,确保图案细节精准

超薄抗蚀剂喷涂技术,提升图案质量

可选喷涂设备进一步优化打印效果

配备晶圆/曝光盒堆纸机、高效曝光冷却系统

支持大/小容量排气系统及网络通信端口

先进图案布局与识别程序,含全自动分析与手动检查功能

可编程定制化选项,满足客户特定需求

支持高级曝光结构、自动晶圆对准及校准

集成高级数据处理功能

高速生产与纳米级精度兼备

产品规格:

●Nikon NSR-2205i9C

产品展示图:

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