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半导体设备膜材化合物半导体Nikon S308F 扫描式光刻机
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化合物半导体Nikon S308F 扫描式光刻机

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产品应用:

Nikon S308F扫描式光刻机

光源波长193nm

分辨率优于0.07μm

主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生产线

广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域

产品特性:

提供中英文软件及4"、6"、8"、12" 设备硅片改造

常年提供所有备件、耗材

产品规格:

●分辨率:0.07um

N.A.:0.92

曝光光源:193nm

倍率:4:1

最大曝光现场:26mm*33mm

对准精度:12nm

产品展示图:

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