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晶圆制造中的电子级氨水
Global PNG2025-07-07 16:43:54
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中国科学院半导体研究所 2025年06月14日 18:03 北京

晶圆制造中的电子级氨水

中国科学院半导体研究所 2025年06月14日 18:03 北京

文章来源:老虎说芯

原文作者:老虎说芯

本文主要讲述晶圆制造中的电子级氨水是什么。

一、什么是电子级氨水?

电子级氨水,本质上是高度纯化的氢氧化铵溶液(NH₄OH),也叫超高纯氨水,是一种呈强碱性的透明液体。它由氨气(NH₃)和超纯水按一定比例溶解混合而成。与普通工业氨水最大的区别在于其超高纯度、极低金属离子杂质和有机残留,专门应用于半导体、显示面板、光伏等高科技领域。

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二、电子级氨水的作用与应用场景

电子级氨水的作用不是“单一清洁剂”,它在多个关键工艺中都承担了核心功能:

1. 晶圆清洗(主要作用)

在集成电路制造中,晶圆表面在每一道工序后都需要极为彻底的清洗,以去除粒子、金属离子、有机残留、微粒等污染物。

电子级氨水通常和双氧水(H₂O₂)、超纯水(UPW)混合,形成SC-1(标准清洗液)**配方:

SC-1 = NH₄OH + H₂O₂ + H₂O

用途:

去除无机颗粒、金属离子等

在不伤害晶圆表面的情况下“剥离”污染

2. 蚀刻工艺

氨水具有一定的化学活性,可参与对部分金属氧化物的选择性刻蚀,尤其是在清洗后的微刻蚀阶段发挥辅助作用。

3. 显示面板、光伏制造中的表面处理

电子级氨水也被广泛应用于TFT-LCD、OLED面板制程,以及硅片光伏制造的清洗与表面改性。

三、为什么电子级氨水门槛高?

1. 超高纯度要求(重点)

IC制造中,哪怕1 ppb(十亿分之一)级的金属杂质都可能影响器件性能或可靠性。因此,电子级氨水必须满足:

杂质金属离子(Fe、Na、K、Ca、Cu等) ≤ ppt ~ ppb级

有机碳(TOC) ≤ 50 ppb

微粒数密度 D50 ≤ 0.1 μm,< 数百个/ml

电导率、电阻率控制精密(通常在18MΩ·cm左右)

2. 配制和储存过程必须洁净

设备需为无金属离子污染材质

制程环境要求达到Class 100或更高洁净等级

运输必须采用专用内衬包装,避免二次污染

四、技术等级与摩尔定律的关系

在先进制程中(如7nm以下),芯片结构更精细、工艺更复杂,清洗要求也随之提升。以G等级划分纯度:

等级

纯度/杂质控制能力

应用节点

G2/G3

主流国产,适配28nm~65nm制程

中低端逻辑/模拟电路

G4/G5

进口主流,适配7nm~14nm

高端CPU、GPU等

五、工艺核心:物理纯化 + 混配工艺

物理纯化方式主要包括:

多级反渗透(RO)

脱气、脱CO₂

超滤(Ultrafiltration)

离子交换(IX)

蒸馏(高精度分离)

这些工艺结合使用,才能制得符合电子级标准的氨水。

六、运输半径短的重要性

由于氨水属于腐蚀性强碱且纯度极高,其在存储和运输过程中容易吸收杂质和CO₂:

产品稳定性差,有效期短(通常1~3个月)

强腐蚀性,运输需特殊包装与车辆

就近供货可降低运输成本、减少品质波动

这就是为何很多电子化学品厂商会在芯片制造厂附近设立“工厂型供应点”或化学品配送中心。

七、总结

电子级氨水是半导体行业中不可替代的基础清洗化学品,它的质量和纯度直接影响芯片的良率和可靠性。面对先进制程的技术需求,电子级氨水的升级不仅是材料企业的挑战,也是国产半导体产业链自主可控的关键一环。

END


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