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【产品应用】:应用于 LED 晶圆芯片的外延层薄膜材料(GaN、SiO2等)的ICP 刻蚀制程、半导体扩散用精密陶瓷零件及半导体晶圆的 MOCVD外延制程。 【产品卖点】:刻蚀用托盘采用高纯无压烧结碳化硅陶瓷材料,具有硬度高,耐腐蚀、耐磨损,使用寿命长等特点,并且产品精度高、晶圆外延层刻蚀均匀性好。
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