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CVD SiC 环 (CVD SiC Ring / Focus Ring)
生产状态:待产
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PT200004480173
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产品概述技术参数行业知识
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【产品应用】:广泛应用于硅、蓝宝石、砷化镓等半导体晶圆的制造环节,根据加工工序不同,主要分为倒角用陶瓷吸盘、划片用陶瓷吸盘、减薄用陶瓷吸盘及检测用陶瓷吸盘。
【产品卖点】:吸盘产品生产全流程工艺可靠、质量稳定,实现了产品在不同工况下优良的应用性能,有效解决了晶圆印痕、芯片静电击穿、Particle污染等诸多难题,在实际应用中实现了半导体晶圆片极高的加工品质,突破了国外厂商的技术垄断,成功实现了国产替代,具有良好的产品性能和市场口碑。
倒角用陶瓷吸盘,耐磨损、刚性好、吸附力强;
划片用陶瓷吸盘,精度高、吸附力均匀、切割品质好;
减薄用陶瓷吸盘,高比刚度、热膨胀低、使用寿命长;
检测用陶瓷吸盘,区域吸附力强、吸光性能好、抗静电性能优异。
【生产工艺】:需求分析与方案设计→材料选择与工艺确认→原料准备→成型→烧结→过程检验→表面处理→性能测试









