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半导体设备检验与测量设备显影机化学浓度监测CCM 化学浓度计 B33 系列
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显影机化学浓度监测CCM 化学浓度计 B33 系列


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B33系列
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一、产品应用

B33 化学浓度计基于物理手段(声速和电导率)为基础,配合三维数字模型进行计算。采用三元方程式作为理论依据建立数字化的三维模型,在特定情况下实现多种化学品浓度的实时监测。为半导体、液晶显示、微电子化学品行业化学品浓度监测,提供了一个经济、简洁、准确、高效、可以长期稳定测量的工具。

应用案例:

6 寸、8 寸、12 寸硅片清洗/研磨(硫酸&双氧水;氨水&双氧水&水;盐酸&双氧水&水;BHF&BOE);

涂胶工艺线化学品浓度监测(TMAH≺HF&氨酸)

湿法刻蚀前显影机化学品监测(TMAH≺HCL&双氧水等)

阵列装置显影机化学浓度监测(TMAH≺HCL&双氧水等)

化学沉积装置化学品浓度监测

二、技术参数

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三、核心优势

可以实现自动校准、远程故障预警、维护报警,

测量稳定性高(长期无故障运行 9000 小时以上)

精度可在±0.001 wt%(需依照测量介质数据模型设定)

模拟(4-20mA)、数字(modbus RS485 RS232)、全数字化通信及控制

测量单位可设定(ppb、ppm、mg/l、g/l、wt %等)


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