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半导体设备检验与测量设备硅片清洗/研磨CCM 化学浓度计 B32 系列
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硅片清洗/研磨CCM 化学浓度计 B32 系列


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B32 系列
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一、产品概述

B32 化学浓度计基于物理手段的复合传感器以声速、电 导率、温度、光谱为基础,配合三维数字模型进行计算。 采用多元方程式作为理论依据建立数字化的三维模型,在 特定情况下实现多种化学品浓度的实时监测。

应用案例:

●6 寸、8 寸、12 寸硅片清洗/研磨(硫酸&双氧水;氨水&双氧水&水;盐酸&双氧水&水;BHF&BOE);

涂胶工艺线化学品浓度监测(TMAH≺HF&氨酸)

湿法刻蚀前显影机化学品监测(TMAH≺HCL&双氧水等)

阵列装置显影机化学浓度监测(TMAH≺HCL&双氧水等)

显影机浓度回收系统(TMAH&PR)

化学沉积装置 化学品浓度监测

二、技术参数

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三、核心优势

可以实现自动校准、远程故障预警、维护报警

测量稳定性高(长期无故障运行 9000 小时以上)

精度可在±0.001 wt%(需依照测量介质数据模型设定)

模拟 (4-20mA)、数字(modbus RS485 RS232)、全数字化通信及控制


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