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平板蚀刻与沉积CVD装置 （AKT1600A）
生产状态：现货
发货日：30 天
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AKT1600A | 库存：1000 | 订货编码：PT200004240017 | 在线询价 | -+ |
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产品概述技术参数行业知识
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产品应用： 高效太阳能电池的制造： ●适用于各类太阳能电池基板的蚀刻与沉积工艺 ●每个370 mm × 470 mm面板可加工2个太阳能基板以上，支持当前主流的太阳能电池尺寸 平板蚀刻与沉积应用（面板类器件） ●可用于氧化物、氮化物、金属薄膜的等离子体蚀刻与CVD沉积 ●适用于显示器面板或其他大型基板制造 半导体材料与薄膜结构的精密加工 ●适用于硅、氮化硅、ITO、a-Si、金属等材料的选择性蚀刻与掺杂薄膜沉积 ●可用于微结构图形的制备、功能层沉积等工艺流程 |
产品特性： 多功能、高集成化平台结构 ●配备5个处理腔室（2个蚀刻腔、3个沉积腔），覆盖主流PECVD与蚀刻工艺 ●蚀刻腔与沉积腔可支持多种材料的处理，灵活组合，节省设备投资 大尺寸面板兼容能力 ●原设计为370 mm × 470 mm基板，目前支持任意尺寸太阳能基板 ●每次可处理至少两个太阳能基板，提升产能与效率 高纯气体控制与多种气体兼容性 ●每个腔室支持多种工艺气体，支持n型/p型掺杂、非晶硅、氮化硅等薄膜沉积 ●提供精准气体流量控制，实现复杂薄膜结构工艺 真空负载锁结构 + 自动传输系统 ●双侧负载锁（Left/Right Load Lock）各支持12片面板，减少气氛干扰 ●自动大气/真空机器人高效传输，支持批量连续作业 支持关键工艺技术 ●具备等离子体增强化学气相沉积（PECVD） ●具备反应离子蚀刻（RIE）技术，适用于精密图形与层厚控制 可扩展性与工艺灵活性 ●C、D、E三个沉积腔室均支持非晶硅掺杂与非掺杂薄膜的沉积 ●腔室可根据产品需求灵活配置成特定用途 |
产品规格： ●AKT1600A |
产品展示图：
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