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半导体设备设备清洗SH-210280 STQH 硅片晶体制绒清洗机
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SH-210280 STQH 硅片晶体制绒清洗机


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规格型号
SH-210280 STQH
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订货编码:PT200004220016
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产品应用:

适用于2”-8”基片的半导体清洗工艺中,有效去除硅/晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。

根据不同清洗工艺配置相应清洗单元,各部分有独立控制、随意组合;造型美观、实用。操作符合人机工程原理。

产品特性:

炉前清洗:扩散前清洗。

光刻后清洗:除去光刻胶。

氧化前自动清洗:氧化前去掉硅面表面污物。

抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的污点。

外延前清洗:除去埋层扩散后的sio2及表面污物。

合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。

离子注入后的清洗:除去光刻胶,sio2层。

扩散预沉积后清洗:除去预沉积时的BSG和PSG。

CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。

附件及工具的清洗:除去表面所有的玷污物。

产品规格:

●SH-210280 STQH

产品应用图:

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