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半导体设备设备清洗光刻工艺全自动半导体料盒超声波清洗干燥机(清洗设备)
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光刻工艺全自动半导体料盒超声波清洗干燥机(清洗设备)


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SH-80150QCH
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产品应用

●光刻工艺:清洗光刻胶显影后的半导体料盒(如FOUP、FOSB),避免交叉污染。

产品特性:

采用超声清洗加喷淋、鼓泡等多种清洗工艺相结合。

采用PLC全自动程序控制系统,设备自动化程度高。

采用意大利步进式刹车马达,运行平稳。

干燥方式采用真空干燥,干燥效果好,不留水印。

洗剂清洗槽配备循环过滤系统,有效确保清洗液洁净度,节约运行成本。

设置智能上下抛动装置,提高清洗效率及清洗效果。

产品规格:

SH-80150QCH。

产品应用图:

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