Wet Station

产品详情：

‌Wet Station是一种湿法刻蚀设备，主要用于微电子和纳米技术领域。‌‌

应用实绩：

‌全白色聚丙烯构造‌：设备主体采用全白色聚丙烯材料，具有良好的化学稳定性和耐腐蚀性。‌易操作性‌：设备设计便于操作，所有必要的组件都在操作者容易触及的地方，减少了安装和维护的时间和难度。‌多功能性‌：可以内置多种匀胶机（旋涂仪），并且配备简便的入氮口和DI喷头，适用于多种处理过程。

用途/用法：

涂布‌：在微电子制造中，湿法刻蚀设备用于在硅片上涂布光刻胶，这是制造集成电路的关键步骤之一。‌刻蚀‌：刻蚀过程用于去除硅片上的不需要的材料，形成电路图案。‌显影‌：使用水或溶剂将光刻胶显影，以暴露出电路图案。‌清洗‌：使用水或溶剂清洗硅片，去除残留的光刻胶和其他杂质。

应用场景：

Wet Station在微电子制造中具有高效、稳定和可靠的处理能力，满足不同工艺需求。