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CMP 软垫


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产品介绍:

无纺布型抛光垫开发用于硅晶片、半导体材料、光学透镜、金属等的抛光(一次抛光)


用途/用法:

  • 用于硅和化合物半导体晶片的一次和最终抛光 - 光学透镜和各种光学器件

  • 用于抛光玻璃零件

  • 用于抛光塑料镜片、不锈钢和其他材料(包括铜板)


应用领域:

半导体 CMP 工艺、LCD 研磨


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