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低压化学气相沉积设备
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PT200003960015
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| 产品名称 | 产品型号 | 用途/用法 |
| 低压化学气相沉积设备 | LPCVD(4.5G/5G) 玻璃尺寸(mm) 4.5G: 945*132*1.8T | 材料科学技术、半导体材料、半导体材料制备 |
用途/用法：
在低于一个大气压的条件下进行的化学气相沉积
应用实绩：
材料科学技术（一级学科），半导体材料（二级学科），半导体材料制备（三级学科）
