磁致溅射仪

产品卖点：

磁致溅射仪不仅可以得到很高的溅射速率，而且在溅射金属时还可以避免二次电子轰击而使基板保持接近冷态，这对单晶和塑料基板具有重要的意义。

用途/用法：

磁致溅射仪是应用于各种金属薄膜的溅射蒸镀仪器，在惰性气体或者活性气体中在阳极和阴极蒸发材料间加上几百伏的直流电压，使之产生辉光放电，放电中的离子碰撞到阴极的蒸发材料靶上，靶材的原子就会由其表面蒸发出来，蒸发原子被惰性气体冷却而凝结或与活性气体反应而形成纳米颗粒。

应用场景：

不仅可以得到很高的溅射速率，而且在溅射金属时还可以避免二次电子轰击而使基板保持接近冷态，这对单晶和塑料基板具有重要的意义。

磁控溅射可以用DC和RF放电工作，故能制备金属膜和介质膜。

但是它的缺点是：不能实现强磁性材料的低温高速溅射，因为几乎所有的磁通都通过磁性靶子，所以在靶面附近不能外加强磁场；绝缘靶会使基板温度上升；靶子的利用率低，这是由于靶子的侵蚀不均匀的缘故